打造半导体制造设备领军企业拓荆科技20日科创板上市4月20日，拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”）首次公开发行股票并在上海证券交易所科创板上市，沈阳市第三家科创板上市公司，沈阳市今年第二家上市公司，拓荆科技成立于2010年，公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备，公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拓荆科技是国内半导体设备行业重要的领军企业之一，三次获得中国半导体行业协会颁发的“中国半导体设备五强企业”称号，产品技术参数已达到国际同类设备水平，拓荆科技将借登陆科创板重要契机，将公司打造成半导体制造薄膜沉积设备领军企业，并出台《沈阳市推进企业在北交所上市工作方案》，沈阳市已从1836家高新技术企业、3516家科技型中小企业和211家“专精特新”企业中精心筛选了555户具有发展潜力的高新技术企业纳入上市后备企业库，已有4户企业处于待发行及中国证监会、证券交易所审核阶段。